抗反射涂層

Anti-reflection Coatings

抗反射涂層

抗反射涂層(AR涂層)是一種應(yīng)用于光學(xué)表面的介電薄膜涂層,以減少特定波長范圍內(nèi)的光線在該表面由于菲涅爾反射而產(chǎn)生的反射率(通常也稱為反射率)。此類涂層的應(yīng)用示例包括眼鏡、光學(xué)系統(tǒng),如照相機(jī)物鏡、光學(xué)窗口、顯示器和光伏電池。在大多數(shù)情況下,基本工作原理是來自不同光學(xué)界面的反射波通過相消干涉在很大程度上相互抵消。

值得注意的是:還有防眩光表面,它們以完全不同的方式抑制反射,是通過微觀粗糙表面的漫散射來實現(xiàn)的。此類表面適用于某些顯示器和觀察端口,但通常不適用于激光應(yīng)用,并且應(yīng)與防反射表面仔細(xì)區(qū)分。

單層抗反射涂層

在最簡單的情況下,設(shè)計用于垂直(法向)入射的防反射薄膜涂層的厚度為單波長的四分之一,該材料的折射率接近兩個相鄰介質(zhì)折射率的幾何平均值。在這種情況下,兩個界面上會出現(xiàn)兩個大小相等方向反射的波,通過相消干涉實現(xiàn)相互抵消。

這種方法的局限性有兩個方面:

  • 并非總能找到具有合適折射率的涂層材料,特別是在基質(zhì)材料具有相對較低的折射率的情況下(例如塑料光學(xué)器件)。
  • 單層涂層僅在有限的帶寬(波長范圍)和有限的角度范圍內(nèi)起作用。

多層涂層

如果找不到適合單層鍍膜的介質(zhì),或者需要對非常寬的波長范圍(或同時針對不同的波長范圍,或不同的入射角)具有抗反射特性,則可以使用更復(fù)雜的設(shè)計,通常須要使用數(shù)值技術(shù),在合適的薄膜設(shè)計軟件中實現(xiàn)。這種多層設(shè)計的一般是在低殘余反射率和大帶寬之間進(jìn)行權(quán)衡。所謂的V涂層僅在窄帶寬(10nm量級)內(nèi)具有高性能,而寬帶涂層在寬波長范圍內(nèi)提供中等性能。

除了這些特性外,對增加誤差容限也值得關(guān)注:有復(fù)雜的涂層設(shè)計,只有非常精確的制造才能達(dá)到高性能。因此,增加誤差容限是設(shè)計中需要考慮的一個重要方面。多層增透膜常用于光學(xué)玻璃和晶體,但也可用于塑料光學(xué)。

設(shè)計方法

對于具有非常少的薄膜層的簡單類型的抗反射涂層,存在分析設(shè)計規(guī)則。對于更復(fù)雜的設(shè)計,可以使用數(shù)值優(yōu)化算法。由此產(chǎn)生的設(shè)計通常不容易理解,因為抗反射特性是由來自各種界面的反射的復(fù)雜干涉引起的。

梯度指數(shù)涂層

梯度折射率涂層(或漸變折射率涂層)實現(xiàn)了更多的可行性,其中層材料的成分逐漸變化。在最簡單的情況下,兩種光學(xué)材料之間在幾個波長的長度范圍內(nèi)的平滑指數(shù)過渡可以在很寬的光譜和角度范圍內(nèi)相當(dāng)好地抑制反射。然而,對于靠近空氣的表面來說,這是很難實現(xiàn)的,因為所有固體材料的折射率都與空氣的折射率明顯不同。一個解決方案是使用亞波長金字塔結(jié)構(gòu)或類似形式的納米光學(xué)器件。這種結(jié)構(gòu)(可以稱為光子超材料)通過在平行于表面的平面上平滑減少固體材料的數(shù)量,模擬折射率平滑過渡到1。然而,也有一些沒有納米光學(xué)的解決方案,特別是將梯度指數(shù)層整合到多層涂層中。將在寬角度范圍內(nèi)具有良好的寬帶抗反射特性,而無需使用具有非常小的折射率的材料。

具有強(qiáng)吸收層的涂層

一種不尋常的抗反射涂層是由一層非常薄的強(qiáng)吸收材料組成的。厚度可能只有幾十納米,即遠(yuǎn)小于無損AR涂層通常所需的厚度。因為這種介質(zhì)的傳播常數(shù)的強(qiáng)虛部會導(dǎo)致明顯的相變。入射光在很大程度上被這種結(jié)構(gòu)吸收,而不會是透射。由于亞波長結(jié)構(gòu)的組合,這種抗反射結(jié)構(gòu)被稱為光子超材料。

增透膜的應(yīng)用

抗反射涂層通常用于光學(xué)元件,以減少光學(xué)損失,有時還減少反射光束的有害影響。在大多數(shù)情況下,增透膜用于面積至少為幾平方毫米的光學(xué)界面。然而,也可以在光纖端部制造這種涂層,所周知,離子束濺射可以實現(xiàn)相對較高的損傷閾值。

損傷閾值

除了反射特性外,抗反射涂層的光學(xué)損傷閾值也很重要,例如用Q開關(guān)激光器的組件中。根據(jù)材料組合,增透膜的損傷閾值可以高于或低于基材。即使對于給定的涂層材料,損傷閾值也會因制造技術(shù)的不同而有很大差異。已知離子束濺射允許相對高的損傷閾值。

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